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第55章 样机完成（第2页）

一声远比预热时更浑厚，仿佛直接敲击在心脏上的嗡鸣声骤然响起！

紧接着，所有人的目光都被样机的心脏部位吸引过去。

那里，一个被多层复杂管道包围的区域，一道光在无声中骤然亮起！

那道光只能在光谱仪看见。

介于幽紫与深蓝之间，带着一种非自然的冰冷质感。

它的光亮异常凝聚，如同实质的光束被牢牢约束在特定的路径之中。

“波长稳定……134纳米！误差低于001！”

在钢铁的轰鸣声中，陈进一大声呼喊。

“能量输出稳定！转化效率317！天啊！”

旁边一个年轻的技术员看着仪表盘，失声惊呼。

317！

这个数字如同惊雷在控制室里炸开！

所有人都知道这意味着什么。

意味着这台简陋样机的光源系统，在效率上已经实现了对全球所有光源系统碾压式的超越！

它成功粉碎了现有的物理和工程极限！

那束深邃的极紫外光持续稳定地输出着，为整个光刻系统提供着纯净的画笔！

“开始曝光测试！”

严正行没有沉浸在光源启动成功的狂喜中。

指令连续下达。

样机内部，精密的光学组件开始工作。

那束凝聚的极紫外光被引导→分束→投射！

承载着电路图案的掩模板被精准定位。

下方，是一片预先处理好的硅晶圆。

时间在紧张到近乎凝固的气氛中流逝。

只有机器的低鸣、风扇的嗡响和仪器数据刷新的滴答声。

所有人屏气凝神。

终于。

“曝光完成！传送至显影蚀刻单元！”

又是一段漫长的等待。

魏天华双手紧紧抓着控制台的栏杆，额间已冒出了冷汗，眼睛却一眨不眨地盯着处理单元的出口。

当那片经过最终处理的硅晶圆被机械臂小心翼翼地取出，送入高倍电子显微镜下。

控制室里只剩下粗重的呼吸声。

巨大的屏幕上，高倍显微图像被清晰地投射出来。

线条！

无比清晰，间距极小的电路线条！

图像旁边，测量软件自动标注出关键数据：

线宽：72纳米！

套刻精度：18纳米！

“成了……真的成了……”

魏天华喃喃自语，声音哽咽。

他缓缓松开抓着栏杆的手，身体微微摇晃了一下。

这位在半导体行业摸爬滚打了一辈子，看尽了白眼和封锁的老总，此刻再也控制不住。

滚烫的泪水冲出眼眶，顺着他布满皱纹的脸颊滑落。

技术壁垒此刻在这清晰的线条面前，被击得粉碎！

四十年追赶的屈辱，无数次被卡脖子的绝望，无数个日夜的殚精竭虑……

所有的情绪都化作了这两行滚烫的热泪。

严正行挺直了腰板，那浓重的疲惫被瞬间驱散。

他摘下护目镜，用力揉了揉布满血丝的眼睛。